3月22日，2025國際顯示技術(shù)大會(huì )（ICDT）在廈門(mén)佰翔會(huì )展中心隆重開(kāi)幕。自2017年首屆大會(huì )成功舉辦以來(lái)，ICDT已成為全球顯示技術(shù)領(lǐng)域的年度盛會(huì )，吸引了來(lái)自世界各地的顯示技術(shù)精英齊聚一堂。辰顯光電作為Micro-LED領(lǐng)軍企業(yè)，受邀參加本屆大會(huì )，致力于推動(dòng)顯示技術(shù)的國際交流與合作，助力中國顯示技術(shù)從跟進(jìn)、同步到引領(lǐng)的變革。
全球首發(fā)Micro-LED新品「幻境InviLux」
3月23日，辰顯光電在ICDT展會(huì )上重磅發(fā)布了全球首款TFT基Micro-LED紋理屏——「幻境InviLux」。這款創(chuàng )新產(chǎn)品采用了微納紋理覆層技術(shù)，能夠呈現木紋、大理石紋、金屬紋等多種紋理效果，并支持客制化設計，使其不僅是一塊屏幕，更可以化身為墻面、家具或藝術(shù)裝置，完美融入各類(lèi)場(chǎng)景。與傳統屏幕在息屏狀態(tài)下的“黑塊”視覺(jué)割裂感不同,「幻境InviLux」在開(kāi)機時(shí)呈現鮮亮畫(huà)面，關(guān)機時(shí)則與背景無(wú)縫融合。辰顯光電通過(guò)這款產(chǎn)品，再次彰顯了其在顯示技術(shù)領(lǐng)域的創(chuàng )新實(shí)力與對用戶(hù)需求的深刻洞察。
「幻境InviLux」：Micro-LED技術(shù)的新高度
「幻境InviLux」由辰顯光電與維信諾創(chuàng )院聯(lián)合開(kāi)發(fā)，標志著(zhù)Micro-LED技術(shù)在實(shí)用性與美觀(guān)性上的重大突破。該產(chǎn)品具備600nits的高亮顯示能力，拼縫像素間距變異率小于10%，確保了多屏拼接后畫(huà)面的連貫性。此外，得益于Micro-LED的高可靠性和長(cháng)壽命等特性，「幻境InviLux」在智慧家庭、高端零售、數字藝術(shù)等領(lǐng)域展現出廣闊的應用前景。
辰顯光電：開(kāi)放合作，引領(lǐng)技術(shù)前沿
在同期舉辦的“第五屆Micro/Mini LED顯示關(guān)鍵技術(shù)路線(xiàn)研討會(huì )”上，辰顯光電副總經(jīng)理兼CTO曹軒博士深入探討了 Micro-LED封裝拼接的技術(shù)挑戰，以及辰顯光電在這一領(lǐng)域的最新項目進(jìn)展。
曹軒博士指出拼接縫隙是影響TFT基Micro-LED拼接屏視覺(jué)效果的一個(gè)重要因素。辰顯光電通過(guò)建立拼接光學(xué)表征標準，優(yōu)化邊緣像素結構，采用玻璃側壁保護工藝和封裝材料優(yōu)化等手段，將拼縫寬度控制在20微米以?xún)�，�?shí)現了近乎無(wú)縫的視覺(jué)效果。
而視角分屏問(wèn)題是由于不同屏體的LED光形差異較大所導致的。這一問(wèn)題的根源在于LED芯片制造過(guò)程中量子點(diǎn)厚度均勻性和芯片刻蝕控制的不一致性。辰顯光電通過(guò)優(yōu)化外延生長(cháng)工藝、芯片刻蝕工藝以及采用Micro-Lens結構設計等手段，有效解決了這一問(wèn)題。經(jīng)過(guò)校準后，TFT基Micro-LED拼接屏在正視角和側視角下均能保持一致的畫(huà)面效果。
辰顯光電持續引領(lǐng)Micro-LED技術(shù)革新與產(chǎn)業(yè)布局
本次展會(huì )上，辰顯光電還展示了88英寸P0.5 TFT基Micro-LED拼接屏、全球首款TFT基Micro-LED透明屏等豐富產(chǎn)品，讓行業(yè)看見(jiàn)辰顯在Micro-LED領(lǐng)域領(lǐng)先的技術(shù)能力。辰顯光電堅信，Micro-LED顯示技術(shù)將以卓越的性能和廣泛的應用場(chǎng)景，引領(lǐng)顯示技術(shù)的新一輪革命，為全球顯示行業(yè)帶來(lái)更多可能性。（固原新聞網(wǎng)）
